Ai biết về công nghệ 45NM của intel không nói cho mình với ???

Công thức High-k và cổng kim loại của Intel dành cho công nghệ xử lý 45 nanomet Silicon dioxide đã được sử dụng làm điện môi cửa bóng bán dẫn trong hơn 40 năm.

Intel đã thành công trong việc thu nhỏ điện môi cổng silicon dioxide tới mức chỉ còn dày 1,2 nanomet – bằng với 5 lớp nguyên tử – trên công nghệ xử lý 65 nanomet trước đó. Nhưng việc tiếp tục thu nhỏ sẽ dẫn tới khả năng làm tăng dò rỉ điện năng thông qua điện môi cổng, tạo ra sự lãng phí điện năng và những vấn đề về nhiệt không cần thiết.

Để giải quyết vấn đề này, Intel đã thay thế silicon dioxide bằng một vật liệu High-k sử dụng chất hóa học hafini dày hơn trong điện môi cổng, giảm tỷ lệ thất thoát xuống hơn 10 lần so với silicon dioxide vốn được sử dụng hơn 4 thập kỷ qua.

Hiện Intel vẫn giữ kín các kim loại cụ thể mà hãng sử dụng làm vật liệu cổng kim loại mới.